離子鍍(dù)
1.定義
蒸發物質(zhì)的分子被電子碰撞電離後以離子沉(chén)積在固體表麵,稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發與陰極(jí)濺射技術的結合。一種離子鍍係統如圖4[離子鍍係統示意圖]
2.原理
蒸發源接陽極,工件接陰極,當(dāng)通以三至五千伏高(gāo)壓(yā)直流(liú)電以後,蒸發源(yuán)與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由於真(zhēn)空罩內充有惰(duò)性氬氣,在放電(diàn)電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離(lí)子(zǐ)暗區。帶(dài)正(zhèng)電荷的氬離子受(shòu)陰極負高(gāo)壓的(de)吸引,猛烈地(dì)轟擊工件表麵,致使工件表層粒(lì)子和髒物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表麵得到(dào)了充分的離子轟擊清洗。隨後,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發料粒子熔化蒸發,進入輝光放電區並被電離。帶正(zhèng)電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同氬(yà)離子一同衝向工件,當拋鍍於工件表麵上的(de)蒸發料離子超過濺失離子(zǐ)的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附於工件表麵的鍍層。
3.分類
① 磁(cí)控濺射離子鍍
② 反應(yīng)離子鍍
③ 空心陰極(jí)放電離子鍍
④ 多弧離子鍍。
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